|
Статистика |
|
|
Онлайн всего: 3 Гостей: 3 Пользователей: 0 |
|
|
|
|
|
Главная » 2009 » Декабрь » 23
В своём пресс-релизе, посвященном официальному выходу
Pine Trail, компания Intel заявляет о повышении производительности
своего нового решения, но конкретных цифр и данных не приводит. Ещё
задолго до выхода новой платформы многие обозреватели надеялись, что
Atom второго поколения покажет существенный прирост быстродействия в
графической подсистеме и позволит комфортно работать с HD-видео. Что же
в реальности представляет из себя новая платформа?
Сотрудники онлайн-магазина Cartft.com сумели заполучить
материнские платы Intel D410PT и D510MO, спроектированные на базе новой
платформы, и провели оценку их производительности с помощью бенчмарков
от Futuremark Corporation и Maxon. Но перед анализом результатов
давайте разберёмся с характеристиками самих плат.
Intel D410PT пришла на смену D945GCLF, которая предназначена
для работы с чипами Atom 230. Среди особен
...
Читать дальше »
Просмотров: 540 |
Добавил: belik |
Дата: 23.12.2009
|
|
Организация IEEE
(Institute of Electrical and Electronics Engineers – Институт
разработчиков электротехники и электроники) подтвердила пересмотр IEEE
Std 1725 – "Стандарта перезаряжаемых батарей для мобильных телефонов",
который устанавливает требования к качеству и надёжности литий-ионных и
полимерных литий-ионных аккумуляторов для устройств сотовой связи. По
словам возглавляющего ответственную за обновление спецификаций рабочую
группу Джейсона Говарда (Jason Howard), индустрия мобильной связи
существенно выросла с момента утверждения IEEE Std 1725 в 2006 году,
как и количество пользователей телекоммуникационных услуг. С
сегодняшним спросом на многофункциональность и более эффективное
энергопотребление телефонов пересмотр является необходимостью.
Коррективы должны учесть самые последние разработки в области
технологий элементов питания.
Просмотров: 408 |
Добавил: belik |
Дата: 23.12.2009
|
|
Японская компания Elpida Memory
заявила о завершении разработки более компактных гигабитных микросхем
памяти DDR3 SDRAM. Новинки, получившие обозначение XS (eXtra-Shrink),
выполнены в рамках 65-нм техпроцесса, но при этом, по утверждению
Elpida, могут соревноваться с современными 50-нм чипами по
себестоимости производства.
В ответ на кризисные явление на рынке DRAM-памяти компания выбрала
стратегию параллельного развития двух направлений исследовательских
работ – переход на новые проектные нормы, а также создание более
"сжатых” версий чипов в рамках существующих техпроцессов. В прошлом
году Elpida представила
65-нм чипы, которые получили более компактные габариты без смены
техпроцесса. XS являе
...
Читать дальше »
Просмотров: 405 |
Добавил: belik |
Дата: 23.12.2009
|
|
|
|
|
Copyright MyCorp © 2024 |
|
|
|